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KEKO CAM-H系列流延機(jī)-大型CAM-H型流延機(jī)為KEKO公司面向產(chǎn)品應(yīng)用的流延機(jī)。先進(jìn)的干燥系統(tǒng)設(shè)計(jì)使得該適合厚膜產(chǎn)品。安裝有眾多的溫度及空氣流量傳感器...

借助Galaxy批處理晶圓，我們將多年的批處理晶圓經(jīng)驗(yàn)與通常僅在單個(gè)晶圓工具上才能找到的過程控制技術(shù)相結(jié)合。此外，該平臺(tái)還可以滿足您的流程需求，使您可以啟動(dòng)原型...

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德國Centrotherm公司是半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm RTP 150是一款快速熱工藝設(shè)備，主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所...

德國Centrotherm公司是國際主流的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火設(shè)備...

Centrotherm公司是半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，尤其在高溫設(shè)備領(lǐng)域。Centrotherm Oxidator 150 經(jīng)過專業(yè)的研發(fā), 能夠滿足 SiC 圓片的高...

Centrotherm Activator 150 高溫爐設(shè)計(jì)用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm*工藝爐管和加熱系統(tǒng)設(shè)，允許工藝溫度達(dá)到 ...

Camtek檢驗(yàn)和計(jì)量解決方案的微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）結(jié)合多種技術(shù)解決MEMS的2 d和3 d挑戰(zhàn)的行業(yè)。

Camtek CMOS圖像傳感器制造商提供了大量環(huán)境系統(tǒng)與不妥協(xié)的檢測能力。

Camtek的校準(zhǔn)和訴訟機(jī)制結(jié)合專用的檢驗(yàn)和計(jì)量能力解決挑戰(zhàn)性的Fan-out的過程。系統(tǒng)支持表面檢驗(yàn)?zāi)芰?的計(jì)量信息層之間結(jié)合位置對齊數(shù)據(jù)。系統(tǒng)生成各種報(bào)告...

Camtek靈活平臺(tái)利用各種技術(shù)解決的復(fù)雜步驟3 dic發(fā)展和生產(chǎn)的需要。我們*自動(dòng)化的2 d和3 d測量和缺陷檢測能力覆蓋的產(chǎn)業(yè)需求解決產(chǎn)業(yè)路線圖。該系統(tǒng)包括...

Camtek提供了一個(gè)*自動(dòng)化的表面檢測系統(tǒng),用于支持大容量生產(chǎn)環(huán)境而提供快速檢驗(yàn)和計(jì)量功能。靈活平臺(tái)支持市場的應(yīng)用程序,包括獨(dú)聯(lián)體、微機(jī)電系統(tǒng)、LED, OQ...

碳化硅晶片是未來一代半導(dǎo)體材料,具有*的電學(xué)性能和優(yōu)異的熱性能。 與硅片和砷化鎵晶片相比,碳化硅晶片更適合高溫和高功率設(shè)備應(yīng)用程序。Camtek開發(fā)專用的檢驗(yàn)和...

Eagle是大量產(chǎn)的2D檢測設(shè)備，采用了CAMTEK自主研發(fā)的檢測系統(tǒng)。主要應(yīng)用領(lǐng)域：CMOS傳感器陣列，LED良率監(jiān)測，MEMS特殊結(jié)構(gòu)監(jiān)測，TSV，mBUM...

agleT-i是AOI市場上2D檢測速度快的設(shè)備之一，其中囊括了CAMTEK的機(jī)構(gòu)、新的鏡頭、高速的傳輸信道。檢測原理與MVP有點(diǎn)類似，都是通過工業(yè)相機(jī)進(jìn)行圖像...

agleT-i是AOI市場上2D檢測速度快的設(shè)備之一，其中囊括了CAMTEK的機(jī)構(gòu)、新的鏡頭、高速的傳輸信道。檢測原理與MVP有點(diǎn)類似，都是通過工業(yè)相機(jī)進(jìn)行圖像...

DAGE4000 Bond tester是一種多功能焊接強(qiáng)度測試儀，可執(zhí)行所有拉力和剪切力測試應(yīng)用。DAGE4000推拉力測試機(jī)可配置為簡單焊線拉力測試儀，也可...

搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。

對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置...

等離子密度與向基板入射的能量能夠單獨(dú)控制，因此Process window寬。均一性好。離子性蝕刻到radical性蝕刻都能都大幅度控制。構(gòu)造簡單，維護(hù)性能*。